【DiaMiner培育钻石设备】DM-8000微波等离子体CVD设备
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面议| （1） | 型号 | DM-8000 |
| （2） | 电源 | AC380 V 三相五线制 50Hz， |
| （3） | 微波输出功率 | 8kW ，2450MHz点频 |
| （4） | 微波泄露 | ≤2mW/cm³@5cm |
| （5） | 功率稳定度 | 1 %（@稳态） |
| （6） | 有效沉积区域 | up to Φ 70 mm |
| （7） | 样品台直径 | Φ120 mm |
| （8） | 极限真空度 | ≤5 ×1 0-1 P a |
| （9） | 真空漏率 | ＜1x10-9Pa.m³/s |
| （10） | 单晶生长 | 生长速度10-15μm/H，单轮生长厚度≥1.6mm |
| （11） | 单晶质量 | 色度H，肉眼无瑕疵 |
| （12） | 气体种类 | 标配四路MFC：H2:1000sccm，CH4:100sccm，O2:10sccm，N2:5sccm；可扩展为5路 |
| （13） | 压强控制范围 | 5-255 torr |
| （14） | 压强控制精度 | ±0 . 1 T o r r |
| （15） | 冷却水 | ＞65L/Min |
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适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的沉积，材质表面处理、低温氧化物的生长等。
