工作原理：纯化媒介是一种高活性的无机化合物，可以用来去除腐蚀性气体中的水分，有效降低腐蚀性气体对气体供应系统中各个部件的腐蚀程度。此类腐蚀行为会产生大量的挥发与非挥发的金属杂质，明显降低设备性能和产能，同时也会大大减少整个气体供应系统的使用寿命。 Metal-X TM 能够有效去除气体原料在生产过程中或是在供应过程中产生的各类金属杂质。由于此类金属杂质无法通过过滤器清除，Metal-X TM 被证明是可以同时去除腐蚀性气体中的水分和金属杂质（挥发与非挥发）的纯化媒介。

去除：

– 水分 (H2O)

– 细微颗粒 (非挥发性）

– 挥发性金属颗粒：铁，钼，铬，钛，镍，锰等

• 提高并确保制程气体质量

• 提高制程性能与产能

• 保护设备不被腐蚀

• 适用于气源 （满瓶），POU 制程机台前端（<100 psig）。

 MTX ™ 拥有比前代同类产品高出约30%寿命。

• MTX™ 拥有更高的性能

< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常压电离质谱分析)

< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里叶红外光谱/Laser IR/Lamda Scan，LDL分析设备及方法的检测极限)

• 不需要额外的电源供应

• 不需要加热或冷却

ICP-MS 电感耦合等离子质谱

典型应用

• 减少etching和chamber cleaning时的金属杂质

• 减少Epi Si CVD气源中的金属杂质

• 光钎和其余超高纯应用

需要具体型号及尺寸等更多信息