Plasma 3000 ICP光谱仪

Plasma 3000Plasma 3000 ICP光谱仪

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2022-08-25 11:24:37
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钢研纳克检测技术股份有限公司

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产品简介

Plasma 3000 ICP光谱仪

详细介绍

分光系统

径向观测与轴向观测设计,适应亚 ppm 到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用 CaF2 棱镜,提高光路传输效率。 优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。 包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。

 

光源

固态射频发生器,高效稳定,体积小巧,效率高,匹配速度快,能适应各种复杂基体样 品及挥发性有机溶剂的测试,均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术,地降低自吸效应和电离干扰,从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景,保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式,待机时降低输出功率,减小气体流量,仅维持等离子体运行,节约使 用成本。

简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。 实时监控仪器运行参数,高性能 CAN 工业现场总线,保障通讯高效可靠。

 

进样系统

简洁的炬管安装设计,自动定位炬管位置,精确的位置重现。 仪器配备系列经过优化的进样系统,可用于有机溶剂、高盐 / 复杂基体样品、含氢氟酸(HF) 等样品的测试。

使用可拆卸式或一体式炬管,易于维护,转换快速,使用成本低。 使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,保障测试性能长期稳定。 多通道 12 滚轮蠕动泵,提升样品导入稳定性。

 

检测器

大面积背照式 CCD 检测器 , 全谱段响应,高紫外量子化效率,抗饱和溢出,具有极宽的动态范 围和极快的信号处理速度。 一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,从而获得更为快速、准确的分析结果。 同类产品中靶面尺寸,百万级像素,单像素面积 24μm X 24μm,三级半导体制冷 , 制冷温 度 低,具有更低的噪声和更好的稳定性。

 

软件系统

人性化的界面设计,流畅易懂,简便易用,针对分析应用优化的软件系统,无须复杂的方法开发, 即可快速开展分析操作。

丰富的谱线库,智能提示潜在干扰元素,帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置,直观的测试结果显示。

 

安全防护

电磁屏蔽,减少电磁辐射 连锁门保护,避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗

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