Plasma 1000 ICP光谱仪

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2022-08-25 11:43:39
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钢研纳克检测技术股份有限公司

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产品简介

Plasma 1000 ICP光谱仪

详细介绍

1.   分析流程全自动化控制,实现软件点火、气路智能控制功能;

2.   输出功率自动匹配调谐,功率参数程序设定;       

3.   优良的光学系统,*的控制系统,保证峰位定位准确,信背比优良;

4.   极小的基体效应;       

5.   测量范围宽,超微量到常量的分析,动态线性范围5—6个数量级;

6.   检出限低,大多数元素的检出限可达ppb级;

7.   良好的测量精度,稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%(5ppm),优于国家标准(JJG768-2005);

8.   Rf输出功率的范围750-1500W,输出功率稳定性小于0.1%;

9.   光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调,可根据不同元素的不同谱线单独设置条件,和全谱仪器比较有更好的检出限;

10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全;

11. 高精度的光室恒温系统,保证仪器优良的长短期精度;

12. 多通道蠕动泵进样,保证仪器进样均匀,工作稳定;

13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃,在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m(JJG768-2005规定小于10V/m)。

14. 具有较高的谱线分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线,能分出铁的四重峰。

15. 人性化的软件设计,操作方便,升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中,进行数据处理,方法编制和结果分析,是真正的多任务工作软件;该软件数据处理功能强大,提供了多种方法,如内标校正、IECS和QC监测功能等,可获得的背景扣除点以消除干扰;对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。

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