高光谱成像仪

高光谱成像仪

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具体成交价以合同协议为准
2022-09-12 16:42:14
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深圳维尔克斯光电有限公司

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产品简介

型号GRAND-EOS的高光谱成像仪可用于全局成像,结合了高光谱显微镜系统和高光谱宽视场成像平台,可以提供微观模式和宏观模式,波长范围覆盖VNIR(400-1000nm)和SWIR(900-1700nm)。

详细介绍

超高光谱成像仪波长范围覆盖400-2500nm


GRAND-EOS高光谱成像仪内部集成了S-EOS 1.7S-EOS 2.5V-EOS凝视型高光谱相机,自身就是一个小型测试平台。

GRAND-EOS高光谱成像仪是由Photon ect公司研发的一个全局成像的超快高光谱成像仪,它将成像技术与光谱技术相结合,结合了高光谱显微镜系统和高光谱宽视场成像平台,可以提供微观模式和宏观模式,波长范围覆盖VNIR400-1000nm)和SWIR900-1700nm)。

由于搭载了Photon ect的:布拉格光栅滤光技术,可以筛选光的波段,并且提供高通过量,高效率的非偏振波长的光,利用这个滤光技术,可以大视场成像,对用户想要的任意波长范围进行扫描,利用一个百万像素的传感器,可以获得样品表面数百万个位置点上的光谱信息GRAND-EOS专为反射,透射和发光成像而设计,非常适合基础研究和工业应用。



GRAND-EOS超高光谱成像仪产品规格参数:

型号

V-EOS

S-EOS1.7

S-EOS 2.5

光谱范围

400 - 1000nm

900 - 1620 nm

900 - 2500 nm

光谱分辨(FWHM

< 2 nm

< 4 nm

< 5 nm

照相机

sCMOS

InGaAs相机

(ZephIR1.7 or Alizé™1.7)

MCT 相机
(ZephIR2.5)

波长精度

FWHM/8

光谱通道

连续可调

入口狭缝尺寸

每个波长无狭缝/全视野测量

曝光控制

物理规范™ 软件控制

标准视场(可定制)

160毫米x 160毫米,20毫米x 20毫米,可根据要求提供其他视野

预处理

图像稳定,空间滤波,统计工具,光谱提取,数据归一化,光谱校正

高光谱数据格式

HDF5, FITS

软件

PHySpecWindows10-64

尺寸

150 cm x 85 cm x 82 cm

重量

80kg

电源要求

120 VAC / 12 A / 60 Hz230 VAC / 12 A / 50 Hz

可选附件

光度校准,激光激发,白光照明,微成像模式:5倍,10倍。



GRAND-EOS超高光谱成像仪开启了以下领域的全新可能

-光伏特性

-伪造品检验

-法医研究

-食品和植物分类


GRAND-EOS超高光谱成像仪特点

-光谱通道连续可调

-从400 nm1620 nm有高灵敏度

-非分散技术

-高性能CCD

-电动对焦

-控制和分析软件




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