复合纳米压印软模板
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复合纳米压印软模板
纳米压印机的基本思想是通过模版，将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同，NIL主要可分为热塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接触（Micro contact printing， uCP）三种光刻技术。
主要功能
技术能力
该设备的发明人2001年至 2003 年，在纳米压印技术发明人、 美国普林斯顿大学 StephenY.Chou 教授的纳米结构实验室作为研究助理进行了为期 3 年的研究工作，发展了紫外光固化纳米压印工艺与材料，对纳米压印技术的发展做出了重要的贡献。2004 年加入材料科学与工程系后继续围绕纳米微加工技术与纳米压印技术开展研究工作，研发了数种新型纳米压印材料，发展了新型高分子压印模板，提出了曲面纳米压印技术；利用 863 课题“紫外光固化和热压两用纳米压印设备的研制与应用”项目的支持，研制成功具有紫外光固化和热压功能两用纳米压印设备，现已成为产品，并被南京大学、北京航空航天大学、国防科技大学、黑龙江大学、中科院深圳研究院等多家高校和科研机构所采用，形成了具有自主知识产权的纳米压印核心技术，技术水准与当前国际该领域水平同步。
应用
纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用，使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制，可大面积地制备纳米级图形。同时，由于这项技术所用的设备简单，制备时间短，压印模板可以重复使用，所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。目前典型的三类纳米压印技术分别是：热压印，紫外固化压印，微接触印刷。分别适用在其各自的领域：
热压印技术：光电、光学器件；微型机电系统领域。
紫外固化压印技术：纳米光电器件、纳米电子器件的生产；NEMS和MEMS加工；半导体集成电路的制造。
微接触印刷技术：生物芯片和微流体器件的生产；生物传感器（抗体光栅）；微机械元件的生产。
加工工艺来分，主要包含五大部分：压印，刻蚀，镀膜，检测&表征与其他。所涉及的仪器设备主要包括：纳米压印机，感应耦合等离子体刻蚀机，电子束蒸发镀膜机，原子力显微镜&扫描电镜，以及超声波清洗机&真空干燥箱等。
Sandwiched Flexible Polymer-SFP® & Hybrid Mold®软模板压印技术
尽可能消除灰尘颗粒对于纳米压印结果产生的影响
在不规则表面或者曲面进行纳米压印（上图为单模光纤进行的纳米压印）
Nickel Template金属镍模板热压技术
直接对于聚合物衬底（PMMA、PET等材料上）直接热压，免去了刻蚀环节。
镍模板寿命长，适合高温高压连续压印。
