实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源）利用真空磁控溅射镀膜方式，可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等，沉积的薄膜具有良好的均匀性、附着力，该设备具有溅射速率快、基片升温低、加热稳定等特点。适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，具有提高产品档次，外观更显华贵作用。

应用领域：实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源）实验用真空镀膜机主要用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业的表面表面镀膜。

设备特点：实验型磁控溅射镀膜机(直流/中频/射频/离子源）具有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、耗电量低的特点。可实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜等工艺。可进行手动、半自动、全自动控制.有多种尺寸型号可供选择。