设备主要由主轴单元、自动供给系统（光刻胶）、排风系统、控制系统等组成，采用框架结构，外表为优质不锈钢镜面护板，无发尘量且不吸浮尘颗粒，工作方式为手动上下片，自动完成工艺。
主轴电机采用进口交流无刷伺服电机（德国路斯特），保证旋转转速、加速度控制精度高，重复性、稳定性好。多件套组成的防溅、废液收集、气流控制，使涂胶工艺条件达到，以形成均匀性高的胶膜，满足光刻工艺要求。

• 匀胶单元 　　　　　　　　 １个(spin unit)
• 离心机
• 额定转速（德国伺服电机）： 0～6000rpm
• 转速： 　　　 　 0～8000rpm
• 转速最小调整量： 　 1rpm
• 转速精度： 　 ±1rpm（500~3000rpm）
• 加速度： 　 20000rpm/s
• 加速度最小调整量： 　 1RPM/S
• 承片台(chuck)
• 材料： 　 防静电PEEK材质(两个)
• 与晶片接触方式 ：　　 真空吸附
• 吸附真空度检测： 　　 数显压力传感器