产品简介
用于研究开发的NLD干法蚀刻NLD-570是一种搭载有阿尔背独自开发的磁性中性线等离子体（NLD）的低压、低电子温度、高密度等离子体的干法蚀刻装置。
详细介绍
特长
·与ICP方式相比，NLD更适合用于低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英玻璃、水晶、LN、LT基板等加工。
·桩状物和硼硅酸玻璃等杂质多的玻璃加工也可以进行形状和表面光滑性优秀的蚀刻
·石英和玻璃的深蚀刻（100μ m以上）也可以作为口罩使用厚膜抗蚀剂。
·可以进行高速蚀刻（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）
·可以追加录音室。
用途
·光学装置（诸如回析光栅、调制器、光学波导和光学开关等）、凹凸型微透镜、光子晶体、流体路径（μ-TAS）制作等。
