产品简介：
量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。                                     

产品特性：
  •  除单腔之外，另可搭载有磁场ICP（ISM）或NLD等离子源、去胶腔体、CCP腔体等对应多种刻蚀工艺

 •  为实现制程再现性及安定性搭载了星型电极及各种调温技能

 •  拥有简便的维护构造，实现downtime最短化，提供清洗、维护及人员训练服务等综合性的售后服务体制

 •  专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制

产品应用：
•  化合物（LED或LD、高频器件）或Power device（IGBT配線加工、SiC加工）
 
•  金属配线或层间绝缘膜（树脂类）、门电极加工工艺
 
•  强电介质材料或贵金属刻蚀
 
•  磁性体材料加工