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刻蚀机NE-5700
量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。 参考价面议刻蚀机NLD-570
用于研究开发的NLD干法蚀刻NLD-570是一种搭载有阿尔背独自开发的磁性中性线等离子体(NLD)的低压、低电子温度、高密度等离子体的干法蚀刻装置。 参考价面议PECVD设备 CX-500z
1.在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。 2.成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,Load-lock,托盘式,多基板尺寸,2inch-8inch 兼容 参考价面议PECVD设备 CC-200
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。 参考价面议