品牌
其他厂商性质
所在地
| 系列 Series | 杂质 Impurity | 入口 Inlet（ppm） | 出口 Outlet（ppb） |
| HON- He/Ar/Ne/Xe -S/W/VVV | O2 | ＜3 | ＜1 |
| N2 | ＜1 | -- | |
| H2 | ＜1 | ＜1 | |
| CO | ＜1 | ＜1 | |
| CO2 | ＜1 | ＜1 | |
| CH4 | ＜0.5 | -- | |
| H2O | ＜3 | ＜1 | |
| NMHC | ＜0.5 | ＜1 | |
| PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
| Pressure Drop | ＜1bar | ||
| Flow | 10～3000Nm3/h | ||
工艺介绍：
（1）通过物理和化学吸附方式脱除O2、CO、CO2、H2O、H2等杂质。
（2）吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生，反复使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可连续供气。
应用领域：
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
气体行业
