品牌
其他厂商性质
所在地
系列 Series | 杂质 Impurity | 入口 Inlet(ppm) | 出口 Outlet(ppb) |
HON- He/Ar/Ne/Xe -SX/WX/VX | O2 | <3 | <1 |
N2 | <1 | <1 | |
H2 | <1 | <1 | |
CO | <1 | <1 | |
CO2 | <1 | <1 | |
THC | <1 | <1 | |
H2O | <3 | <1 | |
PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
Pressure Drop | <1bar | ||
Flow | 10~3000Nm3/h |
工艺介绍:
(1)先通过物理和化学吸附脱除O2、CO、CO2、H2O等杂质。
(2)通过吸气工序高温下进一步脱除O2、CO、CO2、H2O同时深度脱除CH4、N2。
(3)通过脱氢工序常温下深度脱除H2杂质。
(4)吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生,反复使用。
(5)吸气反应器吸附饱和后须整体更换。
应用领域:
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
气体行业