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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪
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经销商沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
产品简介:VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头(另有1英寸靶头可选)和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形,甚至损坏样品;样品台可旋转,可以使样品边旋转边镀膜,使镀膜后的样品表面膜厚均匀。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制,操作方便直观。
VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪操作视频
产品型号 | VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪 |
技术参数 | 1、输入电源:220VAC 50/60Hz 2、溅射电流:0-150 mA可调 3、功率:<2KW 4、输出电压:1600VDC(max) 5、溅射腔体 (1).采用石英腔体,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H (2).密封:采用O形密封圈密封 6、溅射头&样品台 (1).二英寸带水冷的磁控溅射头(注意:水冷机不是标配)另有1英寸靶头可选 (2).一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0-5 RPM (3).安装有一可手动操作的溅射挡板 (4).样品台和靶头之间的距离可以调节,调节范围:30-80mm (5).靶头支架,可以在非溅射状态放置溅射靶头 (6).溅射面积:4英寸(max) 7、控制面板 6" PLC集成触摸屏控制面板,可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度 8、真空系统 (1)安装有KF25真空接口 (2)数字真空压力表(Pa) (3)此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含) (4)采用机械泵 <1.0E-2 Torr (5)采用涡旋分子泵 <1.0E-5 Torr (6)可在本公司选购各种真空泵 9、进气 含一个控制进气的针阀和一个放气阀,本设备接气需要安装减压阀 10、靶材 (1)靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度) (2)适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金属(可在我公司选购) |
产品规格 | 1、产品外型尺寸:(L)460 mm × (W)330 mm × (H)520 mm 2、净重:20 kg(不包含泵及水冷机) |
可选配件 | 薄膜测厚仪 加热样品台 浮子流量计 |