VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

首页>电气设备/工业电器>电源>开关电源

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

型号
沈阳科晶自动化设备有限公司

免费会员 

经销商

该企业相似产品

自动化设备

沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。

详细信息

产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED

 

产品名称

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-3HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套

       接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。

2可制备多种薄膜,应用广泛。

3体积小,操作简便。

4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

5根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、总功率:<2.5KW

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:3

6、靶枪冷却方式:水冷

7靶材尺寸:Ø2,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10载样台:Ø140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:ArN2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,1流量为100 SCCM1流量为200 SCCM

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

2

2

射频电源控制系统

1

3

膜厚监测仪系统

1

4

分子泵(德国进口)

1

5

冷水机

1

6

冷却水管(Ø6mm

4

可选配件

金、铟、银、等各种靶材

掩膜版

振动样品台

 


 

 

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

在线询价 在线询价
您的留言已提交成功~

采购或询价产品,请直接拨打电话联系

联系人:金

联系方式:
温馨提示

该企业已关闭在线交流功能