VGB-600-3HD薄膜电池制备系统

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VGB-600-3HD薄膜电池制备系统

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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自动化设备

沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。

详细信息

产品简介 VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作,用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。系统配置三个靶枪,一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头,用于各类靶材的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究薄膜电池、固态电解质及OLED等,与普通磁控溅射相比可以做Li靶材及锂基材料靶材的镀膜实验,是新能源行业实验室镀膜实验的理想设备

 

产品名称

VGB-600-3HD薄膜电池制备系统

主要特点

1、配置三个靶枪,一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头,用于各类靶材的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)。

2、可制备多种薄膜,应用广泛。

3、体积小,操作简便。

4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。

5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪(选配)。

6、可在手套箱内进行实验操作,更换各类易氧化的靶材用于镀膜实验。

技术参数

三靶磁控溅射部分

1、电源电压:220V  50Hz

2、总功率:2.5KW

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司机械泵设备使用可达到 E-3mbar)

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:3个

6、靶枪冷却方式:水冷

7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、溅射电源功率:300W(射频)/500W(直流)

9、载样台:Ø140mm

10、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

11、保护气体:Ar、N2等惰性气体

12、进气气路:质量流量计控制2路进气,1个流量为100 SCCM,1个流量为200 SCCM

手套箱部分

1、电源:单相AC110V-220V  50Hz/60Hz

2、壳体材料:304不锈钢

3、手套箱腔体:1220mm×760mm×900mm

4、前级室:设有2个前级室,大前级室Ø360mm×600mm,小前级室Ø150mm×300mm

5、腔体环境:水含量<1ppm(20℃,1atm),氧含量<1ppm(20℃,1atm)

6、工作气体:N2、Ar、He等惰性气体

7、控制气体:压缩空气或惰性气体

8、还原气体:工作气体和H2的混合气(如果净化系统只有除水功能,还原气体与工作气体相同)

9、气体净化系统:德国BASF除氧材料、美国UOP高效吸水材料,净化系统再生过程自动控制,自动除水、 除氧功能,可*、持续维持气体纯度在水<1ppm、氧<1ppm

10、压力控制系统:腔体气压可通过PLC触摸屏自动控制,控制精度为±1Pa,也可通过脚踏开关进行手动控制

11、过滤系统:进、出气端都装有过滤器,过滤精度为0.3μm

12、控制系统:SIEMENS彩色触摸屏(6寸),PLC控制系统,中英文双语可切换;

 

水探头采用美国GE品牌,0-1000ppm触摸屏显示,精度0.1ppm;

氧变送器采用美国AII品牌,0-1000ppm触摸屏显示,精度0.1ppm;

压力传感仪采用美国setra品牌,-2500-2500Pa触摸屏显示,精度±1Pa;

13、真空泵:采用英国EDWARDS品牌,抽速8.4m3/h-12m3/h

14、手套:美国NORTH品牌丁基合成橡胶

15、照明系统:飞利浦品牌荧光灯管

产品规格

三靶磁控溅射部分:950mm×460mm×810mm

手套箱部分:2300mm×1500mm×1900mm

 

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