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VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪
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沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来，沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日，已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品，可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
详细信息
产品简介：VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
| 产品型号 | VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪 |
| 主要特点 | 1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 |
| 技术参数 | 1、输入电源：220V/50Hz 2、溅射靶数量：2 3、靶枪冷却方式：水冷 4、极限真空度：7.4E-5pa 5、真空室规格：Φ300×330 mm 6、真空系统：VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 7、恢复真空：系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min（系统短时间暴露大气） 8、充气系统：2路质量流量计（１路氩气100scc、２路氩气200scc）特殊气体可定制 9、溅射靶规格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 10、样品台：Φ140mm/可旋转（1～20rpm）/可加热（室温～1000℃） |
| 产品规格 | 主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm |
