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RIE SI 591 等离子刻蚀机
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司，经过十多年的紫外光专业技术沉淀，可以根据客户特殊要求提供定制化服务，研发设计组装：紫外臭氧清洗机（UV清洗机），准分子清洗机，等离子清洗机/去胶机等科研以及生产设备，拥有自主品牌及注册商标。 同时我们代理欧美日多家高科技设备厂家高性价比产品, 始终坚持创新, 技术, 服务, 诚信的企业文化，为广大中国及海外客户提供的仪器设备和材料的整体解决方案。 应用领域: 半导体/微纳，光电/光学, 生命科学/生物医疗等领域的研发和生产, 客户群体例如高等院校, 研究所，科技企业及医疗机构等。 半导体/微纳，光电/光学 产品主要有： 德国ParcanNano（Nano analytik）针尖光刻机，电子束光刻机, 激光直写光刻机，紫外光刻机，微纳3D打印机，德国Sentech刻蚀机/镀膜机及原子沉积，英国HHV磁控/电子束/热蒸发镀膜机，微波离子沉积机MPCVD，芬兰Picosun原子层沉积机，电子显微镜, 德国Bruker布鲁克原子力显微镜/微纳表征/光谱仪, 美国THERMO FISHER赛默飞光谱/色谱/质谱/波谱仪，美国Sonix超声波显微镜, 德国耐驰Netzsch热分析仪, 德国Optosol吸收率发射率检测仪, 日本SEN UV清洗机/UV清洗灯，美国Jelight紫外清洗机/紫外灯管，德国Diener等离子清洗机等*技术产品。 生命科学/生物医疗 产品主要有：PCR仪，核酸质谱仪/核酸检测仪，电子显微镜，紫外设备，光谱/色谱/质谱/波谱仪，生物芯片，试剂，实验耗材等。 并可依据客户需求，研发定制相关产品。我们以高性价比的优势为客户提供优质的产品与服务，为高等院校, 研究所，科技企业及医疗机构等客户提供仪器设备和材料。
详细信息
ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机
SI 591特别适用于采用氟基和氯基气体的工艺，可以通过预真空室和电脑控制的等离子工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小，高度灵活性，例如，SI 591可作为单一反应腔系统集成在多腔系统中。
工艺灵活性
RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺
占地面积小且模块化程度高
SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。
SENTECH控制软件
我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。
预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件，使得SI 591 具有优异的工艺再现性和等离子体蚀刻工艺灵活性。灵活性、模块性和占地面积小是SI 591的设计特点。样品直径大可达200mm，通过载片器加载。SI 591可以配置为穿墙式操作或具有更多选项的小占地面积操作。
位于顶部电极和反应腔体的更大诊断窗口可以轻易地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH椭偏仪进行原位监测。
SI 591结合了计算机控制的RIE平行板电极设计的优点和预真空室系统。SI 591可配置用于各种材料的刻蚀。在SENTECH，我们提供不同级别的自动化程度，从真空片盒载片到一个工艺腔室或多六个工艺模块端口，可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统，目标是高灵活性或高产量。SI 591也可用作多腔系统中的一个工艺模块。
SI 591 compact
- 可配置为至多6端口传输
- 结合RIE, ICP-RIE和PECVD腔体
- 手动预真空室置片或片盒装载
- 用于研发和高产量的多腔系统
- SENTECH控制软件
SI 591 cluster
- 可配置为至多6端口传输
- 结合RIE, ICP-RIE和PECVD腔体
- 手动预真空室置片或片盒装载
- 用于研发和高产量的多腔系统
- SENTECH控制软件
