PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机

首页>实验室仪器设备-热搜分类>制样设备>刻蚀机

PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机

型号

该企业相似产品

深圳市蓝星宇电子科技有限公司,经过十多年的紫外光专业技术沉淀,可以根据客户特殊要求提供定制化服务,研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机),准分子清洗机,等离子清洗机/去胶机等科研以及生产设备,拥有自主品牌及注册商标。 同时我们代理欧美日多家高科技设备厂家高性价比产品, 始终坚持创新, 技术, 服务, 诚信的企业文化,为广大中国及海外客户提供的仪器设备和材料的整体解决方案。 应用领域: 半导体/微纳,光电/光学, 生命科学/生物医疗等领域的研发和生产, 客户群体例如高等院校, 研究所,科技企业及医疗机构等。 半导体/微纳,光电/光学 产品主要有: 德国ParcanNano(Nano analytik)针尖光刻机,电子束光刻机, 激光直写光刻机,紫外光刻机,微纳3D打印机,德国Sentech刻蚀机/镀膜机及原子沉积,英国HHV磁控/电子束/热蒸发镀膜机,微波离子沉积机MPCVD,芬兰Picosun原子层沉积机,电子显微镜, 德国Bruker布鲁克原子力显微镜/微纳表征/光谱仪, 美国THERMO FISHER赛默飞光谱/色谱/质谱/波谱仪,美国Sonix超声波显微镜, 德国耐驰Netzsch热分析仪, 德国Optosol吸收率发射率检测仪, 日本SEN UV清洗机/UV清洗灯,美国Jelight紫外清洗机/紫外灯管,德国Diener等离子清洗机等*技术产品。 生命科学/生物医疗 产品主要有:PCR仪,核酸质谱仪/核酸检测仪,电子显微镜,紫外设备,光谱/色谱/质谱/波谱仪,生物芯片,试剂,实验耗材等。 并可依据客户需求,研发定制相关产品。我们以高性价比的优势为客户提供优质的产品与服务,为高等院校, 研究所,科技企业及医疗机构等客户提供仪器设备和材料。

详细信息

PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机

PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统,可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸,是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电极冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。

。直开式设计允许快速装卸晶圆
。出色的刻蚀深度和刻蚀速率控制
。出色的晶圆温度均匀性
。晶圆可达200mm
。购置成本低
。符合半导体行业 S2 / S8标准

应用:

· III-V族材料刻蚀工艺

· 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺

· 二氧化硅和石英刻蚀

· 用于失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆

· 用于高亮度LED生产的硬掩模的沉积和刻蚀

特点:

· 小型系统 —— 易于安置

· 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制

· 高导通的径向(轴对称)抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率

· 增加<500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录

· 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度

· 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单

· X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力, 并且可以实现更快更可重复的匹配

· 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快

· 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界

· 用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

在线询价 在线询价
您的留言已提交成功~

采购或询价产品,请直接拨打电话联系

联系人:廖总

联系方式:
温馨提示

该企业已关闭在线交流功能