一、PECVD原理：  化学气象沉积（chemical vapor deposition,简称CVD）是在一定的温度条件下，混合气体之间与基材表面相互作用，并且进一步在基材表面形成金属膜或者化合物薄膜，使材料表面改性，以达到耐磨，抗氧化、抗腐蚀性等性能，在电子，光学，摩擦力学，机械应用方面有很多应用。 等离子化学气象沉积（plasma enhanced chemical vapor deposition,简称PECVD）也叫做等离子体辅助化学气象沉积（简称PACVD）则是依靠等离子体中得电子的动能去激活气象得化学反应，由于等离子体是离子、电子、中性原子和分子的集合体，因此大量的能量存在于等离子的内能之中。PECVD是冷等离子体，是通过低压气体放电而形成的，一般是在几帕到几百帕的低气压下，通过射频、中频等放电所产生。 二、PECVD的特点：   与常规的热CVD比较，PECVD具有更多的优点     1、沉积温度低：热CVD的温度一般高于600度，其应用范围非常有限，大部分只能用于实验功能，PECVD的沉积温度可以降到200度以内，这是由于其内能，也就是电子所具备的高能量所提供的。此优点决定了其可以广泛的应用于各种金属、半导体、电子等领域。     2、沉积速率及均匀性得到提高：PECVD在辉光放电中所用的压力比较低，反应物中分子、原子等离子粒团与电子之间的碰撞、散射、电离等作用增强，膜层厚度的均匀性得到改善，针孔减少，组织致密，内应力少，不易产生微裂纹。     3、可以获得性能*的膜层：PECVD的辉光放电处于非平衡状态，及能量耗散状态，其沉积产物呈多样性，可以获得热分解所不能得到的物质，典型的，热分解甲烷得到石墨薄膜，PECVD则可以得到金刚石薄膜。  三、公司设备特点1、设备整体尺寸：550mm*550mm*1200mm（宽*深*高）2、真空室尺寸：直径70*高度110mm3、平行板电极尺寸：直径60mm4、电极调节：可调节5、真空系统：机械泵6、极限真空度：1*10-3mabr。7、溅射电源：射频电源5KW8、工艺匹配：手动匹配9、气体控制：质量流量控制器 2路10、真空检测：电阻真空计11、加热系统：热电阻加热 1.2KW12、控制方式：手动控制系统  四、PECVD设备的应用1、沉积DLC膜层：用与机械、电子、医疗等领域2、沉积氮化硅：半导体行业、微电子行业3、沉积TIN膜层：以及TIC等硬质膜层，比离子镀更光亮，更美观4、*管：CNTs是PECVD技术的一个新的应用5、太阳能薄膜电池：非晶硅太阳能电池的制备

欢迎来到北京维意真空技术应用有限责任公司， 具体地址是北京市密云县西田各庄镇雁密路99号601室-819，老板是杨利佳。 是,手机是,主要经营北京维意真空技术应用有限责任公司，原名北京科立方真空技术应用有限公司，创立于2013年，位于中国·首都北京密云经济技术开发区，主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分，是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司，公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师，具有丰富的行业经验。。 单位注册资金单位注册资金人民币 ３00 万元以下。 作为一家从事教育装备多年的企业，主营维意真空,ALD,原子层沉积镀膜设备,PE-CVD,等离子体增强化学气相沉积镀膜设,源瓶等产品，不论是什么样的客户我们都会以真诚的态度，优惠的价格，可靠地品质及热忱的服务来面对您。而且大量的库存以及合作的物流公司，确保您的货物能准确安全的到达您的手中。一切为成为您可靠的伙伴而努力！