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无尘净化工程介绍
无尘净化工程重要的作用在于控制产品(如硅片等)与空气接触的空气保持清洁度和温湿度，以使产品能够在良好的环境空间生产、制造，该空间我们称之为洁净室。根据国际上的惯例，无尘净化水平主要由每立方米空气中微粒的粒径大于分度标准来确定。这就是说，无尘并不是99%没有尘埃，而是被控制在非常微量的单位上。对于光学构造来说，这一标准中对尘埃标准的粒子，相对于普通尘埃来说已经微不足道了，但对于光学构造来说，即使是一点尘埃也会产生很大的负面影响，因此，无尘是光学构造产品的必然要求。
控制微尘量小于0.3微米，每立方米应控制在3500微米以下，达到国际无尘标准。适用于晶片级生产和加工的无尘标准对粉尘的要求高于，这种高标号主要用于某些等级的芯片生产。
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