SRS-400型磁控溅射PVD系统，配备三组磁控溅射靶群及控制系统，适用于沉积各种单/多层膜系.可实现单靶直溅和多靶共射功能。制备氮化物和氧化物反应膜溅射功能，可沉积金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜层，非常适合科研实验或新材料研发使用，适用于快速多层金属或合成膜沉积工艺。

主要特点：

• 多膜系沉积功能，可溅射绝大多数膜层
• DC/RF溅射电源可以使多种膜系随意切换
• 大抽速真空系统即插即用
• 多靶共镀功能满足多层多膜系混镀要求
• 全自动压力控制，更利于沉积的均匀性
• 预设参数全自动成膜过程无需人为干预

应用领域：

• 金属和介质膜
• 薄膜传感器的制造
• 光学元件
• 纳米与微电子
• 太阳能电池

主要配置：

• 圆筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm
• 500L/s涡轮分子泵+双级旋片泵组合
• 全量程B-A复合真空规
• 三组2英寸磁控溅射靶
• 公自转阳级基片挂架，更利于大片沉积的均匀性保证。
• 2DC+1RF溅射电源
• VAT全自动压控闸阀
• 石英晶体监测系统用于实时厚度测量（1 nm精度）
• 精密气体质量流量计（MFC）
• 基板600°C短波红外可调加热器
• 全自动腔体上盖开启装置
• 自动PLC控制系统可提供手动调试模式
• 10英寸工控触控屏，操作简单易用

系统结构图如下：

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鑫镭真空专业为企业和科研项目制作用于薄膜材料实验的小型多靶溅射系统，提供真空镀膜机的全系统整合、升级和专用系统定制以及真空设备整机维修、安装等服务。质量可靠，提供多个案列参考。