SRS-600射频/中频磁控溅射镀膜机 定制新材料研发PVD系统

SRS-600射频/中频磁控溅射镀膜机 定制新材料研发PVD系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-08-04 17:54:52
224
产品属性
关闭
鑫镭真空技术（东莞）有限公司

鑫镭真空技术（东莞）有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

系统概述：DC/RF磁控溅射系统是最基本的真空等离子薄膜沉积技术，是通过DC、RF（13.56MHz）或脉冲MF（10200kHz）电源对金属、半导体及其化合物进行薄膜沉积溅射和反应膜磁控溅射沉积系统

详细介绍

 

系统概述：

DC / RF磁控溅射系统是最基本的真空等离子薄膜沉积技术，是通过DC、RF（13.56 MHz）或脉冲MF（10 – 200 kHz）电源对金属、半导体及其化合物进行薄膜沉积溅射和反应膜磁控溅射沉积系统。

主要功能特点：

  • 直流磁控溅射
  • 脉冲中频磁控溅射
  • 射频磁控溅射
  • DC / RF反应磁控溅射
  • 脉冲反应磁控溅射

应用领域：

  • 金属和介质膜
  • 薄膜传感器的制造
  • 光学元件
  • 纳米与微电子
  • 太阳能电池

主要配置：

  • 半圆形型真空室尺寸Ф650mm x500mm
  • 1000L/s涡轮分子泵+双级旋片泵组合
  • 全量程B-A复合真空规
  • 三组3英寸磁控溅射靶
  • 公自转阳级基片挂架，更利于大基板沉积的均匀性保证。
  • 1DC+1RF+1MF（10 – 200 kHz）溅射电源更高建设效率
  • 全自动压控闸阀
  • 石英晶体监测系统用于实时厚度测量（1 nm精度）
  • 3路精密气体质量流量计（MFC）
  • 基板600°C短波红外可调加热器
  • 手动前门配备4"观察窗
  • 自动PLC控制系统提供手动调试模式
  • windows应用系统控制软体，操作简单易用

系统结构图如下：

  • 可选1、2、3、靶位向上溅射方式，更利于靶位安装和基片无污染沉积。
  • 基板支架采用悬架可翻转结构，一次可装载（沉积）3种以上不同规格的基材。
  • 3英寸磁控溅射靶利于溅射多层金属和介质材料膜层，更适合用于小型精密光学器件和超硬膜层。
  • 靶位可根据工艺在0-25°c角度可调和30-150mm阴极距离调整范围，更便于从金属-半导体-化合物反应溅射沉积多工艺需求。

 

技术指标 可选配置和增加配件
三组磁控溅射靶全自动沉积 低温泵高真空系统
自动记录并生成沉积薄膜参数图，数据传输和打印 离子束辅助系统增加膜层致密性
自动基板公转控制 石英晶体膜厚控制
系统压力自动控制溅射压力 备用腔室内胆
3路MFC布气系统 电阻热主蒸发系统
极限真空7.0E-7torr(1000L/s) 离子束等离子基板清洗
1*RF和1*DC+1MF（10 – 200 kHz）电源可三靶共溅 样品基板公自转旋转
电源规格：380V – 50/60 HZ-50A 多路反应气体MFC
尺寸：高175cm×宽100cm×深100cm 腔体外壁冷却
质量：〜276KG 腔体密封套件

 

更多PVD系统工艺说明可查阅本站点解决方案目录：/jjfa

 

鑫镭真空专业为企业和科研项目制作用于薄膜材料实验的小型多靶溅射系统，提供真空镀膜机的全系统整合、升级和专用系统定制以及真空设备整机维修、安装等服务。质量可靠，提供多个案列参考。

 

 

 

 

热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话：