氮气洁净烘箱  光刻胶无尘烘箱   百级烘箱工艺

    不同的匀胶转速，对应不同的光刻胶厚度，厚度越大，由于曝光的穿透深度以及光的衍射，光刻的分辨率就会越低，并且会在光刻胶侧壁形成明显的梯形。厚度太薄的话，在刻蚀的时候会被刻穿，要根据需要刻蚀的深度选择合适的光刻胶厚度，从而选择合适的转速

在匀胶结束后，使用温度95°烘5min来提高光刻胶的致密性以及与晶圆的粘附性。

氮气洁净烘箱  光刻胶无尘烘箱   百级烘箱指标

洁净度：Class100、1000     

温度：RT+15～200/300/400℃；
气体：N2 

计时功能：可选 

设备材质：内部SUS304不锈钢           

工作尺寸（mm）：

450×450×500

500×500×550

600×700×800

（可定制）          

网板：活动式2-5块

运行模式：定值或程式

操作界面：按键或彩色触摸屏

氮气洁净烘箱  光刻胶无尘烘箱用途

适用于IC封装、光刻胶固化、银胶固化、电子液晶显示、LCD、CMOS、MEMS、医药、实验室等生产及科研.

驱赶胶中的溶剂

提高胶对衬底的黏附性

提高胶的抗腐蚀能力

优化胶的光学吸收特性

提高涂胶的均匀性

提高条宽控制能力

通过前烘，基片上的光刻胶基本固化。