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HMDS真空烤箱，MES系统HMDS烤箱 工业烘箱
- 型号
- 参数
- 类型:真空
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上海隽思实验仪器有限公司（以下简称“隽思仪器”）是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业，具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业，建筑，节能等行业；多年来，公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨，为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评，更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精，更完善！
隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统，HMDS烘箱，洁净烤箱，百级洁净烘箱，氮气烘箱，高温无氧烘箱，真空无氧烘箱，无尘无氧化烘箱，抗粘剂涂胶机，精密恒温加热台，快速高低温气流仪，超低温试验箱，高低温试验箱，高低温交变湿热箱定做，HMDS真空涂胶烘箱，低温脆性检测仪，黑蒜发酵设备，导体直流电阻测试仪，电线电缆检测仪器，真空烘箱，黑蒜试验机，橡塑检测试验机等。
不断追求技术进步、提升专业服务能力，做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理，在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程，形成了覆盖全国的快速服务网络，以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会，以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来！
详细信息
HMDS真空烤箱，MES系统HMDS烤箱主要用途：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
HMDS真空烤箱特点：
1、具有MES接口,可连接MES系统；
2、有权限操作员需扫码后才可操作此设备,且自动记录作业人员；
3、作业时扫码可实现自动调取所需作业程序,作业员只需确认是否正确；自动记录作业累计次数；
4、作业批号,作业人员,作业起止日期及时间,作业温度曲线,作业条件,可自动生成Excel报表。
MES系统功能：
为企业生产管理人员进行过程监控与管理、保证生产正常运行，控制产品质量和生产成本提供了灵活有力的工具。
1、正确掌握在制品数量，及不良品的追踪，降低在制品成本；
2、 用条形码追踪产品序号，提高产品的售后服务水平；
3、及时反应产品质量问题，追溯品质历史，提高产品治理；
4、 大幅减少现场手工作业，提高现场管理人员的生产力；
5、充分掌握工具、设备的使用状况，使制造资源高效运作；
6、 强大的统计报表为企业管理决策提供实时、准确、可靠的生产数据，提高公司核心竞争力。
HMDS真空烤箱，MES系统HMDS烤箱技术指标：
1、内部尺寸(mm)：350*350*350/450*450*450/550*550*65可定制尺寸
2、 材质： 外箱采用304不锈钢或优质冷轧板喷塑，内箱采用316L医用级不锈钢
3、温度范围： RT+10-250℃
4、温度分辨率：0.1℃
5、 温度波动度： ≤±0.5
6 、真空度： ≤133pa（1torr）
7、 洁净度： class 100，设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境
8、 电源及总功率：AC 220V、380V±10% / 50HZ
9、 控制仪表：人机界面
10、 搁板层数：2层
11、 HMDS控制：可控制HMDS药液的添加量
12、 真空泵：旋片式油泵或进口无油泵
13、 保护装置： 低液位报警，HMDS药液泄漏报警，超温报警并断开加热，超温保护，漏电保护，过热保护等
