桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱 工业烘箱
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上海隽思实验仪器有限公司（以下简称“隽思仪器”）是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业，具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业，建筑，节能等行业；多年来，公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨，为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评，更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精，更完善！
隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统，HMDS烘箱，洁净烤箱，百级洁净烘箱，氮气烘箱，高温无氧烘箱，真空无氧烘箱，无尘无氧化烘箱，抗粘剂涂胶机，精密恒温加热台，快速高低温气流仪，超低温试验箱，高低温试验箱，高低温交变湿热箱定做，HMDS真空涂胶烘箱，低温脆性检测仪，黑蒜发酵设备，导体直流电阻测试仪，电线电缆检测仪器，真空烘箱，黑蒜试验机，橡塑检测试验机等。
不断追求技术进步、提升专业服务能力，做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理，在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程，形成了覆盖全国的快速服务网络，以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会，以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来！
详细信息
桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱使用工艺
光刻--就是将掩膜版上的几何图形转移到涂有一层光刻胶的晶圆表面的工艺过程。典型的光刻全过程为:
晶圆表面预处理一涂胶(去边)一前烘一 (对位) 曝光一PEB 烘一显影一后烘一显检(测量)
以上步骤中的第1步表面预处理就是涂胶前要进行增粘处理（可利用亲水/疏水理论对其进行解释。由于衬底表面吸水特性，使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。通常的方法是使用气相沉积的方法改变表面特性，一般采用HMDS涂布方法改变晶圆表面的亲水性，从而增大晶圆表面的接触角），增强光刻胶和晶圆的粘附力。
桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱涂布方法
JS-hmds90烘箱采用真空蒸镀的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后烘箱内部充入N2，达到常压后方可开门。
温度范围：RT+10-250℃
真空度：≤1torr
控制仪表：人机界面，一键运行
储液瓶：HMDS储液量1000ml
真空泵：无油涡旋真空泵
数据处理：多个工艺方案，可修改并记录，使用数据可记录
保护装置： 低液位报警，HMDS药液泄漏报&警，超温保护并断开加热，超温保护，漏电保护，过热保护等
小型HMDS真空烤箱增粘处理的注意事项:
1)预处理完的硅片应在一定的时间内尽快涂胶，以免表面吸附空气中的水分，降低增粘效果。但同时也要充分冷却，因硅片的温度对胶厚有很大的影响;
2)反复预处理反而会降低增粘效果;
3)HMDS 的瓶盖打开后，其寿命有限。
