HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

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HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

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类型:真空
上海隽思实验仪器有限公司

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上海隽思实验仪器有限公司(以下简称“隽思仪器”)是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!
 隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
    不断追求技术进步、提升专业服务能力,做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程,形成了覆盖全国的快速服务网络,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会,以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来!





详细信息

 光刻工艺是半导体制造中最为重要的一个步骤。光刻工艺是以光刻胶的感光性及耐腐蚀性等特性,将掩膜版上的图形转移到硅片的光刻胶上,为了之后的刻蚀及离子注入等工艺做准备。一般的光刻工艺流程分为:衬底准备、涂胶、软烘于、对准和曝光、曝光后烘干、显影。

HMDS烤箱,HMDS真空烘箱的由来

半导体工艺中需要在各种衬底上进行光刻胶涂布,黏附性是否良好是最大的问题。黏附差导致严重的侧面腐蚀,线条变宽,甚至有可能导致图形全部消失,湿法刻蚀技术要求光刻胶与下面的衬底有很好的黏附性。

提高光刻胶与衬底之间的黏附力有多个步骤:

a、涂胶前进行脱水坚膜;

b、使用黏附促进剂,即HMDS(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布;

c、高温后烘。

完成以上工艺仅用我司生产的HMDS真空烘箱即可。

HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

温度范围:RT+10-250℃

真空度:≤133pa(1torr)

控制仪表:人机界面,一键运行

储液瓶:HMDS储液量1000ml 

真空泵:无油涡旋真空泵

       HMDS真空烘箱也称为智能型HMDS真空系统 将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。


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