光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱

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JS-HMDS90 光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱

型号
JS-HMDS90
参数
材质:316L不锈钢 功率:2500 加工定制:是 类型:真空 适用范围:MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体 温度范围:110-160℃
上海隽思实验仪器有限公司

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上海隽思实验仪器有限公司(以下简称“隽思仪器”)是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!
 隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
    不断追求技术进步、提升专业服务能力,做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程,形成了覆盖全国的快速服务网络,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会,以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来!





详细信息

  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱研发背景

       集成电路光刻工艺中常使用HMDS对晶圆衬底进行黏附处理,来提高光刻胶与衬底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷(Si(CH3)3)2NH,行业所要求纯度大于99.7%。



HMDS黏附机  HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱作用



      衬底在空气中易形成厚度为几个原子层的二氧化硅薄膜,由于其具有亲水性,会吸附空气中的水分到衬底表面。光刻胶涂层多为有机疏水材料,这就造成了光刻胶与衬底黏附性差。在实际生产中,常将HMDS雾化,并在特定的温度和压力条件下处理,来改变晶圆表面的亲水性。其原理可以简述为HMDS中的有机基团取代晶圆表面水分子羟基,使晶圆表面由亲水性变为疏水性。



  光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱实用性

       在光刻中,光刻胶的黏附效果受到光刻涂层,衬底材料,以及光刻工艺三方面的影响。HMDS的黏附处理不只是对硅基衬底有效。也用于其他衬底,诸如多晶硅,石英,太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

HMDS烘箱兼容2~12寸晶圆及碎片、方片等。

设备名称:HMDS烘箱

设备型号: JS-HMDS90

内腔尺寸:450×450×450、350×350×350(mm)可定制

材质:外箱采用优质冷轧板喷塑、304不锈钢,内箱采用316L医用级不锈钢

工艺温度:110-160℃

真空度:≤1torr

工艺运行:自动运行


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产品参数

材质 316L不锈钢
功率 2500
加工定制
类型 真空
适用范围 MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体
温度范围 110-160℃
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