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面议简介
scia Trim 200用于晶圆或光学元件的高精度表面离子束修整或抛光,而不受薄膜和材料的限制。该系统专为批量生产而设计,具有满足产能和维护的优化布局,可以配有能容纳标准晶圆尺寸的半导体载具机器手。此外,组合布局可选2个工作仓和2个载具loadlock以提高产能。
常规属性
- 采用聚焦离子束轰击样品表面,通过控制离子束焦斑在局部区域的驻留时间,来实现表面材料的定量去除,从而实现抛光或表面修整。
- 显著提升产能
- 薄膜的厚度均匀性可以修正到原子水平,至0.1nm
- 消除了边缘效应
- 具有ZBE功能,可进行亚纳米级去除
- 对样品材料没有限制
- 产能与维护在设计时就进行了优化,以降低生产成本
- 可以加工带有光刻胶的晶圆,具有良好的样品冷却配置
* ZBE:zero base etching
系统性能