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StrainScope Stepper拼接式测量应力仪
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面议化学气相沉积与反应离子刻蚀系统 PECVD/RIE
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面议简介
scia Magna 700 磁控溅射镀膜系统是专门为高精度光学多层膜制造而设计的,在直径为Φ680mm以内的平面或曲面基底上,镀制超过100个周期的超薄多层膜,可以镀高精度均匀膜或渐变膜。配以自动化的样品装载loadlock机构,可以缩短装载时间并提高产能。
常规属性
- 磁控溅射技术利用等离子体离子轰击溅射靶材,从而在样品基底表面沉积薄膜
- 利用同步样品公转和自转在曲面衬底上形成均匀或梯度薄膜
- 有6个磁控源,每个磁控源都有单独的外壳,以独立供气并设定各自的粒子溅射曲线
- 可选预处理离子源
- 带有loadlock的样品载具操作机构,具有2个独立的样品工位
- 样品面朝下装载,以减小粒子污染
系统性能