(25μm) P150 大幅面
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nanoArch P150是可以实现实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前前景的微纳加工技术之一。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏树脂 | 光学精度 25μm |
| XY打印精度 50~200μm | 打印层厚 10~50μm | 打印样品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
| 打印文件格式 STL（单材） | 系统外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) | 重量 300kg |
| 电气要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW | 其他要求 部分工艺可选配加速模块及涂层模块 | 设备功率 2000W |
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物科研树脂等。
