NX-Hivac高真空AFM
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在高真空环境进行纳米测量可显著提高数据的灵敏度和分辨率,并增强材料分析能力。 因为高真空扫描环境相比氮气N2或干燥环境条件更具有精确性和稳定的重复性的数据,用户可以在半导体材料和故障分析等应用中测量各种掺杂浓度和反馈信号的不同响应。
在高真空条件下执行扫描扩散电阻显微镜测量可减少所需的针尖-样本相互作用力,从而大幅度降低对样本和针尖的损伤。如此可延长各针尖的使用寿命,使扫描更加低成本和便捷,并通过提高空间分辨率和信噪比得到更为精确的结果。因此,利用NX-Hivac进行的高真空扫描扩散电阻显微术测量可谓是故障分析工程师增加其吞吐量、减少成本和提高准确性的明智选择。
Hivac 管理器通过一键单击在逻辑和视觉上控制真空条件抽气和排气过程来实现高真空。各个过程通过颜色和图示变化得到直观监控,一键单击后您即可无需操心真空操作顺序。更快速、更简便的真空控制软件使原子力显微镜的使用更便捷更高效。
NX-Hivac具有大量功能从而能够减少用户输入。换言之,您可以更快速地扫描,提高实验室产量。
StepScan允许用户能够对器件进行编程从实现而快速便捷地多区域成像。NX-Hivac让您只需五步即可完成样本扫描:扫描、提升悬臂、移动电动平台至用户定义坐标区域、进针及重复扫描。如此可极大地提高生产率,减少用户输入。
Park电动激光对准使用户无需输入即可无缝衔接自动化测量例程。凭借着我们的预准直悬臂架,在更换探针时激光已对准悬臂。只需要调整定位旋钮,便可在X和Y轴上任意定位激光光点,达到位置。
NX-Hivac即是精准的高性能原子力显微镜,同时也是用于故障分析的方便的原子力显微镜之一。Park NX-Hivac帮您可以提高自己的生产效率,并确保取得靠谱的结果。
利用两个独立的闭环XY和Z轴挠曲扫描仪,您可以确信扫描的高精准度。NX-Hivac提供低残余弯曲的平面和正交XY轴扫描,使得整个扫描范围内的离面运动距离低于1 nm。此外,NX-Hivac的特色还有非线性为低于0.5%的15 μm扫描范围的高速Z轴扫描仪,无需进行软件后期处理即可获得精准的二维和三位测量。
NX-Hivac具有Park原子力显微镜行业的低噪声Z轴探测器功能,可准确测量样本形貌,同时低噪声XY轴闭环扫描将前后扫描间隙降低至扫描范围的0.15%。
NX-Hivac的一大特点是NX系列电子控制器可实现时间浪费最小化、精度。我们的控制器为全数字、24位高速器件,用户能够利用其执行一系列扫描,包括我们的真正非接触(True Non-Contact)模式。控制器具有低噪声设计和高速处理部件,是精密电压和电流测量及纳米级成像的之选。嵌入式电子产品同时具有数字信号处理特点,用户可轻松地分析测量值和成像。
扫描器 | XY扫描器: 50 μm × 50 μm (100 μm x 100 μm 可选) 扫描器: 15 μm |
视觉 | 轴向直接观察样品表面和悬臂 视野:840μm×630μm(带10倍物镜) CCD:500万像素 |
样品台 | 样品尺寸:使用单个样品时为100 mm x 100 mm的开放空间,使用多个样品时为10 mm x 10 mm的开放空间,厚度为20 mm XY样品台行程范围: 22 mm x 22 mm Z平台行程范围: 24 mm 聚焦台行程范围: 11 mm |
高真空 | 真空等级: 通常小于 1 x 10-5 托 泵速: 使用涡轮和干式泵在约5分钟内达到 10^-5托 |
控制器 | 信号处理: ADC: 18通道 X,Y和Z扫描器位置传感器的24位ADC DAC: 17 通道 用于X,Y和Z扫描器定位的20位ADC 综合功能: 4通道灵活的数字锁定放大器弹簧常数校准(热控制法)数字Q控制 |
软件 | Park SmartScan™: AFM系统控制和数据采集软件 自动模式,可快速设置和轻松成像 手动模式,用于高级使用和更精细的扫描控制 XEI: AFM数据分析软件 独立设计—可以安装和分析AFM以外的数据 能够生成采集数据的3D渲染 Hivac Manager 全自动真空控制软件 |
选项/模式 | 非接触 接触 轻巧 磁学特性 磁力显微镜 (MFM) 介电/压电特性 压电响应力显微镜(PFM) 高压PFM 压电响应谱 机械性能 PinPoint纳米力学 力调制显微镜(FMM) 纳米压痕 纳米刻蚀 高压纳米刻蚀 纳米操纵 侧向力显微镜(LFM) 力距(F / d)谱 力体积成像 电学特性 导电原子力显微镜(C-AFM) I / V谱 开尔文探针力显微镜(KPFM) 高压KPFM 扫描电容显微镜(SCM) 扫描扩展电阻显微镜(SSRM) 扫描隧道显微镜(STM) 静电力显微镜(EFM) 热性能 扫描热显微镜(SThM) 化学特性 化学力显微镜,带功能化针尖 |
配件 | 温控台 倾斜样品载台 卡入式样品载台 |