(10μm) S140 大幅面
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nanoArch S140是可以实现实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前前景的微纳加工技术之一。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏树脂 | 光学精度 10μm |
| XY打印精度 10~40μm | 打印层厚 10~40μm | 打印样品尺寸 Mode Single：19.2mm*10.8mm*45mm |
| 样品高度 10mm in typical； | 打印速度 288~1152mm3/h | 打印文件格式 STL |
| 设备功率 3000W | 系统外形尺寸 主机：650(L)*650(W)*750mm(H) | 重量 300kg |
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
405nm固化波段的光敏树脂材料 ，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，4D打印树脂，生物医疗树脂等，需适配不同的工艺和模型，不保证打印性能
