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StrainScope Stepper拼接式测量应力仪
面议离子束刻蚀系统 Mill 150 德国scia Systems
面议大口径离子束抛光刻蚀机 Finish 1500 德国scia Systems
面议离子束抛光刻蚀机 Trim 200 德国scia Systems
面议化学气相沉积与反应离子刻蚀系统 PECVD/RIE
面议离子束刻蚀系统 Mill 150 德国scia Systems 罗茨风机
面议大口径离子束抛光刻蚀机 Finish 1500 德国scia Systems 罗茨风机
面议大口径磁控溅射镀膜机 Magna 700
面议4D泰曼格林动态干涉仪 PhaseCam 6110 紧凑型
面议4D泰曼格林动态干涉仪 PhaseCam 4030经济型
面议4D 菲索型相移干涉仪 AccuFiz D 动态相移型
面议4D 菲索型相移干涉仪 AccuFiz SWIR 短波红外型
面议简介
scia Coat 500双离子束溅射镀膜机,用于精密光学的大尺寸基板的高均匀性镀膜,菜单控制的沉积过程可保证镀膜质量的重复性。最多可以允许4种挡板,可以提高均匀性,也可以沉积设计的梯度薄膜。
常规属性
- 主离子源用于溅射靶材到样品基底上,沉积成膜;次离子源用于样品表面离子束轰击清洗或辅助镀膜。
- 可沉积介质和金属膜,用于光学滤波器、X射线反射镜、同步辐射镜等
- 可沉积渐变膜(比如Gobel 镜)
- 具有在线基底预处理 (刻蚀、清洗、平滑化)功能
- 通过基板旋转与线性运动的叠加,可以获得的沉积均匀性
- 转鼓靶架上最多可有6个水冷靶材料,用于在线更换
- 使用石英晶振和/或光学厚度监视器(OTM),菜单式控制多层膜沉积
- 通过线性轴运动控制系统,可以实现梯度薄膜沉积或表面误差校正
- 可选衬底加热至250°C以优化薄膜应力
系统性能