碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱

碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱

参考价: 订货量:
98900 1

具体成交价以合同协议为准
2023-09-15 13:52:25
864
属性:
材质:不锈钢;工作室尺寸:45mm;功率:2500;加工定制:是;类型:真空;温度范围:200℃;
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产品属性
材质
不锈钢
工作室尺寸
45mm
功率
2500
加工定制
类型
真空
温度范围
200℃
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上海隽思实验仪器有限公司

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产品简介

碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化镓等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用

详细介绍

碳化硅HMDS烘箱的背景

   碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表,也是目前晶体生产技术和器件制造水平成熟,应用广泛的宽禁带半导体材料之一,目前已经形成了全球的材料、器件和应用产业链。

   碳化硅(SiC)是由硅(Si)和碳(C)组成的化合物半导体材料。其结合力非常强,在热、化学、机械方面都非常稳定。SiC存在各种多型体(多晶型体),它们的物理特性值各有不同。

碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱的作用

  HMDS烘箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱主要性能:

空间(mm):300*300*300

       450*450*450

       600*600*600,可定制

适用产品:兼容1-12寸晶圆及碎片

温度范围:RT+10-250℃

温度稳定度:≤±0.5℃

真空度:≤133pa(1torr)

材质:316L不锈钢+冷轧板喷塑

HMDS系统:密闭设计,自动开启,数据可设定

液位计:低液位报警

储液瓶:HMDS储液量1000ml 

真空泵:无油涡旋真空泵

运行时间:20Min

计量单位:S/Pa

运行方式:自动运行

进气:N2

排气:有机排放

电源:220V、50-60HZ

功率:2800W



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