HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱

JSHMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱

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158709 1

具体成交价以合同协议为准
2023-12-25 14:37:32
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属性:
材质:不锈钢;工作室尺寸:980mm;功率:4000;加工定制:是;类型:真空;适用范围:太阳能、半导体、集成电路;温度范围:200℃;重量:390kg;
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产品属性
材质
不锈钢
工作室尺寸
980mm
功率
4000
加工定制
类型
真空
适用范围
太阳能、半导体、集成电路
温度范围
200℃
重量
390kg
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上海隽思实验仪器有限公司

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产品简介

HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱适用行业:MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

详细介绍

HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱简介

光伏刻蚀是太阳能电池制造过程中的重要环节,下面是一般光伏刻蚀工艺的流程:

1. 表面准备:可以采用清洗溶液、酸洗、超声波清洗等方式。

2. 光罩/掩膜涂覆:在光伏刻蚀中,需要使用光罩或掩膜来保护不需要刻蚀的区域。光

3. 刻蚀:具体刻蚀条件(如刻蚀液的浓度、温度、刻蚀时间等)会根据电池设计和制造要求进行控制。

4. 刻蚀后处理:后处理可能包括漂洗、清洗、脱罩等步骤,以确保电池片的质量和可靠性。

5. 光伏电池制造其他工艺:刻蚀只是太阳能电池制造的一部分,之后还需要进行光伏电池的其他工艺。

HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱用途

光刻蚀刻加工的基本原理:

1. 光敏材料涂覆:首先,在待加工的基底表面涂覆一层光敏感材料(例如光刻胶)。该材料对于特定波长的光会发生化学或物理变化。涂覆的光敏材料形成了一个称为“光刻胶层”的薄膜。

2. 光罩设计和准备

3. 曝光

4. 图案形成

5. 刻蚀。

然而在光敏材料涂覆前需要将电池片基底做疏水性处理,该处理工艺需要借助HMDS增粘剂。一般通过气相沉积的方法将HMDS处理在衬底表面。该设备为上海隽思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能:

温度范围:RT+10-200℃

真空度:≤1torr

操作界面:人机界面

工艺编辑:可储存5个配方

气体:N2进气阀,自动控制

容积:定制

产品兼容性:2~12寸晶圆及碎片、方片等

适用行业:MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。




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