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HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱
¥98989掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱
¥98690HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS预处理烘箱
¥188950光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱
¥112690HMDS烘箱专用真空泵,HMDS系统无油泵
¥35860光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱
¥158709HMDS烘箱真空泵,HMDS烘箱无油泵 工业烘箱
¥28900HMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统 工业烘箱
¥88900桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱 工业烘箱
¥1500HMDS增粘剂烘箱,HMDS涂胶机 工业烘箱
¥560碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱
¥98900HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵
¥35800HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱简介
光伏刻蚀是太阳能电池制造过程中的重要环节,下面是一般光伏刻蚀工艺的流程:
1. 表面准备:可以采用清洗溶液、酸洗、超声波清洗等方式。
2. 光罩/掩膜涂覆:在光伏刻蚀中,需要使用光罩或掩膜来保护不需要刻蚀的区域。光
3. 刻蚀:具体刻蚀条件(如刻蚀液的浓度、温度、刻蚀时间等)会根据电池设计和制造要求进行控制。
4. 刻蚀后处理:后处理可能包括漂洗、清洗、脱罩等步骤,以确保电池片的质量和可靠性。
5. 光伏电池制造其他工艺:刻蚀只是太阳能电池制造的一部分,之后还需要进行光伏电池的其他工艺。
HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱用途
光刻蚀刻加工的基本原理:
1. 光敏材料涂覆:首先,在待加工的基底表面涂覆一层光敏感材料(例如光刻胶)。该材料对于特定波长的光会发生化学或物理变化。涂覆的光敏材料形成了一个称为“光刻胶层”的薄膜。
2. 光罩设计和准备
3. 曝光
4. 图案形成
5. 刻蚀。
然而在光敏材料涂覆前需要将电池片基底做疏水性处理,该处理工艺需要借助HMDS增粘剂。一般通过气相沉积的方法将HMDS处理在衬底表面。该设备为上海隽思HMDS烘箱
HMDS烘箱的性能:
温度范围:RT+10-200℃
真空度:≤1torr
操作界面:人机界面
工艺编辑:可储存5个配方
气体:N2进气阀,自动控制
容积:定制
产品兼容性:2~12寸晶圆及碎片、方片等
适用行业:MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。