HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机

JS-MOL00HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机

参考价: 订货量:
128950 1

具体成交价以合同协议为准
2024-05-21 16:34:29
669
属性:
材质:316L不锈钢;工作室尺寸:45mm;功率:2500;类型:真空;适用范围:MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体;温度范围:230℃;
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产品属性
材质
316L不锈钢
工作室尺寸
45mm
功率
2500
类型
真空
适用范围
MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体
温度范围
230℃
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上海隽思实验仪器有限公司

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产品简介

HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

详细介绍

HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机用途

  使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机应用行业

MEMS系统

CVD薄膜;

光刻

用于光刻胶附着力的 HMDS 

作为聚合物和基材之间的粘合层

作为印章和聚合物材料之间的非常薄和保形的离型层;

喷墨

防止墨水积聚在喷嘴面板上,确保墨水流动不受限制;

生物MEMS

亲水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善润湿性,或防止蛋白质吸收,或减少器件性能的“漂移”

微阵列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白质、抗体、组织;

光学和 AR/VR 应用

修改光学特性

创建纳米压印层或钝化层;

图像反转

金属剥离工艺,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的无蚀刻工艺;

HMDS烘箱  图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机技术性能

    材质:内箱采用316L医用级不锈钢

    工艺温度:100-150℃

    温度分辨率:0.1℃

    温度波动度:≤±0.5

    真空度:≤133pa(1torr)

    操作界面:人机界面,一键作业

    层数:2层

    HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

    图像处理:图像反转

    真空泵: 进口无油泵

    保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报&警提示,HMDS低液位报&警,超温保护,漏电保护,过热保护等


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