HMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统 工业烘箱

JSHMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统 工业烘箱

参考价: 订货量:
88900 1

具体成交价以合同协议为准
2023-12-04 11:51:14
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属性:
材质:不锈钢;工作室尺寸:45mm;功率:2500;加工定制:是;类型:真空;适用范围:MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体;温度范围:200℃;重量:190kg;
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产品属性
材质
不锈钢
工作室尺寸
45mm
功率
2500
加工定制
类型
真空
适用范围
MEMS,氮化镓,砷化镓,半导体
温度范围
200℃
重量
190kg
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上海隽思实验仪器有限公司

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产品简介

HMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统适用行业:MEMS、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

详细介绍



HMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统性能:


涂布方式:气相沉积

使用温度:RT+50-200℃

真空度:≤1torr

设备材质:内箱采用316L医用不锈钢

运行方式:一键运行,自动完成工艺处理,并有结束提示音

尺寸大小:450*450*450mm

兼容性:2-12寸晶圆及方片等

储液瓶:HMDS储液量1000ml 

真空泵:进口干式真空泵

数据处理:多个工艺配方存储,使用数据记录

保护装置:低液位报警,HMDS药液泄漏报警,超温保护并断开加热,漏电保护等

HMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统用行业

MEMS、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。


SiC碳化硅(HMDS预处理系统)是由碳元素和硅元素组成的一种化合物半导体材料,是制作高温、高频、大功率、高压器件的理想材料之一。


碳化硅原材料核心优势体现在:

(1)耐高压:更低的阻抗、更宽的禁带宽度,能承受更大的电流和电压,带来更小尺寸的产品设计和更高的效率;

(2)耐高频:SiC器件在关断过程中不存在电流拖尾现象,能有效提高元件的开关速度(大约是Si的3-10倍),适用于更高频率和更快的开关速度;

(3)耐高温:SiC相较硅拥有更高的热导率,能在更高温度下工作。

    相比传统的硅材料(Si),碳化硅(SiC)的禁带宽度是硅的3倍;导热率为硅的4-5倍;击穿电压为硅的8-10倍;电子饱和漂移速率为硅的2-3倍。


碳化硅晶片应用于肖特基二极管、 MOSFET、IGBT等,主要用于电动汽车、光伏发电、轨道交通、数据中心、充电等基础建设,主要用于5G通信、车载通信、国防应用、数据传输、航空航天。





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