光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱

JS光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱

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具体成交价以合同协议为准
2023-12-25 16:21:20
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属性:
材质:不锈钢;工作室尺寸:980mm;功率:4000;加工定制:是;类型:恒温;适用范围:太阳能、半导体、集成电路;温度范围:200℃;重量:390kg;
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产品属性
材质
不锈钢
工作室尺寸
980mm
功率
4000
加工定制
类型
恒温
适用范围
太阳能、半导体、集成电路
温度范围
200℃
重量
390kg
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上海隽思实验仪器有限公司

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产品简介

光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性,使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

详细介绍

光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱的作用

  电池片制备是光伏电池片生产中的核心环节,主要包括光刻、扩散、沉积和金属化等工艺步骤

1.光刻:光刻工艺主要利用光刻胶和掩膜将所需的电极图案投影到硅片表面,并通过曝光和显影等过程形成图案。

2.扩散:扩散工艺通过高温将掺杂物(如磷或硼)注入硅片中,形成PN结构,从而使其具有正负电荷分离的能力。

3.沉积:沉积工艺主要是在硅片表面进行氧化、硝化或硫化等处理,形成适当的电池片表面结构和保护层

4.金属化:金属化工艺将电极材料(如铝或银)通过蒸镀、溅射或印刷等方法沉积在电池片表面作为电流收集和传输的导体。

    光刻中第一步需要表面预处理,就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性,使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱技术参数

主要方法:气相沉积

工艺步骤:HMDS烘箱在高温条件下,达到真空状态后开始涂布工艺,涂布完成后烘箱内部充入N2,排出尾气,达到常压后方可开门。

温度范围:RT+10-200℃

真空度:≤1torr

控制仪表:人机界面,自动运行

储液瓶:标配 

真空泵:无油涡旋真空泵

数据处理:多个工艺方案,可修改并记录,使用数据可记录

保护装置: 低液位报警,HMDS药液泄漏报&警,超温保护并断开加热,漏电保护,过流保护等


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