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可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱
¥897850掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱
¥98690HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱
¥98960HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机
¥128950HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱
¥89600HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱
¥158709桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱 工业烘箱
¥1500碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱
¥98900HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵
¥35800六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱
面议HMDS 烘箱 工业烘箱
面议HMDS烤箱,HMDS真空烘箱
面议光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱的作用:
电池片制备是光伏电池片生产中的核心环节,主要包括光刻、扩散、沉积和金属化等工艺步骤
1.光刻:光刻工艺主要利用光刻胶和掩膜将所需的电极图案投影到硅片表面,并通过曝光和显影等过程形成图案。
2.扩散:扩散工艺通过高温将掺杂物(如磷或硼)注入硅片中,形成PN结构,从而使其具有正负电荷分离的能力。
3.沉积:沉积工艺主要是在硅片表面进行氧化、硝化或硫化等处理,形成适当的电池片表面结构和保护层
4.金属化:金属化工艺将电极材料(如铝或银)通过蒸镀、溅射或印刷等方法沉积在电池片表面作为电流收集和传输的导体。
光刻中第一步需要表面预处理,就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性,使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱技术参数
主要方法:气相沉积
工艺步骤:HMDS烘箱在高温条件下,达到真空状态后开始涂布工艺,涂布完成后烘箱内部充入N2,排出尾气,达到常压后方可开门。
温度范围:RT+10-200℃
真空度:≤1torr
控制仪表:人机界面,自动运行
储液瓶:标配
真空泵:无油涡旋真空泵
数据处理:多个工艺方案,可修改并记录,使用数据可记录
保护装置: 低液位报警,HMDS药液泄漏报&警,超温保护并断开加热,漏电保护,过流保护等