- 面议
起订量：
ME-L全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪 紫外光谱仪
- 型号
该企业相似产品
沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来，沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日，已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品，可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
详细信息
产品简介：ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构，半导体周期性纳米结构，新材料，新物理现象研究，平板显示，光伏太阳能，功能性涂料，生物和化学工程，块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。
双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素；配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块，软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷；丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。
产品型号 | ME-L全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪 | ||
主要特点 | 1、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 2、可实现穆勒矩阵数据处理，测量信息量更大，测量速度快、数据更加 3、基于双旋转补偿器配置，可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素，相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息 4、颐光技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱 5、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 6、集成对纳米光栅的分析，可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息 | ||
技术参数 | 1、应用：科研级/企业级 2、基本功能：Psi/Delta、R/T、穆勒矩阵等光谱 3、分析光谱：380-1000nm(支持扩展至210-1650nm) 4、单次测量时间：1-8s 5、重复性测量精度：0.005nm 6、精度(直通测量空气) 椭偏参数:ψ=45±0.05°△=0±0.1° 穆勒矩阵:对角元素m=1±0.005；非对角元素m=0±0.005 7、光斑大小：大光斑2-3mm；微光斑200μm | ||
可选配置 | 波段选择 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度选择 自动:45-90° 手动:55-75°(5°步进),90° 固定:65° 其他选择 Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制) 温控台:室温一600C(供参考,按需定制) | ||
可选配件 | 1 | 温控台 |
|
2 | Mapping扩展模块 |
| |
3 | 真空泵 |
| |
4 | 透射吸附组件 |
| |
