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SE-L光谱椭偏仪 紫外光谱仪
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沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来，沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日，已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品，可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
详细信息
产品简介：SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪，集众多科技技术，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。
产品型号 | SE-L光谱椭偏仪 | ||
主要特点 | 1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案 2、全自动变角、调焦等控制平台，一键快速测量 3、软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷 4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力 5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集 7、全自动椭偏测量技术，基于行业电机控制技术，全自动调整测量角度，高精度控制样件台，实现样件快速自动对准找焦 8、颐光技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱 9、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 | ||
技术参数 | 1、自动化程度：自动变角 2、应用定位：自动型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱 4、分析光谱：380-1000nm(可扩至193-2500nm) 5、单次测量时间：0.5-5s 6、重复性测量精度：0.01nm 7、光斑大小：大光斑2-3mm,微光斑200um 8、入射角调节方式：自动变角 9、入射角范围：45-90° 10、找焦方式：自动找焦 11、Mapping行程：支持100x100mm(可选配) 12、支持样件尺寸：大至200mm | ||
可选配置 | 波段选择 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度选择 自动:45-90° 其他选择 Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制) 温控台:室温一600℃(供参考,按需定制) | ||
可选配件 | 1 | 温控台 |
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2 | Mapping扩展模块 |
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3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附组件 |
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