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SE-Mapping光谱椭偏仪 紫外光谱仪
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沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来，沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日，已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品，可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
详细信息
产品简介：SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
产品型号 | SE-Mapping光谱椭偏仪 | ||
主要特点 | 1、全基片椭偏绘制化测量解决方案 2、支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量 3、配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力 4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力 5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集 7、具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告 8、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 | ||
技术参数 | 1、自动化程度：固定角+ mapping 2、应用定位：检測型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R等光谱 4、分析光谱：380-1000nm(可扩至193-2500nm) 5、单次测量时间：0.5-5s 6、重复性测量精度：0.01nm 7、光斑大小：大光斑2-3mm,微光斑200um 8、入射角调节方式：固定角 9、入射角范围：65° 10、找焦方式：手动找焦 11、Mapping1程：300x300mm 12、支持样件尺寸：大至300mm | ||
可选配件 | 3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附组件 |
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