智能型HMDS蒸镀机台概述

智能型HMDS蒸镀机台通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。

特点

Ø  预处理性能更好：由于是在经过数次的氮气置换后进行的HMDS处理，所以不会在有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。

Ø  处理更加均匀：由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

Ø  效率高：液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达8盒（4寸）的晶片。

Ø  更加节省药液：实践证明，用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多。

​系统结构

Ø  加热系统：由于工艺的整个过程都需要在200℃左右的环境下进行，所以自始至终加热系统都在工作。本系统采用在腔内分布两块独立的热板来实现加热，每个热板都采用人工智能PID调节仪实现闭环控制，调节仪控制固态继电器的输出从而实现温度的精确稳定控制，测温采用通用的高精度热敏电阻Pt100。

Ø  真空系统：由真空泵、真空组件、真空测量等组成，主要作用是置换气体和抽走剩余HMDS蒸汽。

Ø  充氮系统：作用是在置换过程中，用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽，从而终替换空气或药液蒸汽的气氛。主要由氮气源、控制阀和喷头组成。