隽思 品牌
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上海市所在地
可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱
¥897850掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱
¥98690HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱
¥98960HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机
¥128950HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱
¥89600HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱
¥158709桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱 工业烘箱
¥1500碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱
¥98900HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵
¥35800六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱
面议HMDS 烘箱 工业烘箱
面议HMDS烤箱,HMDS真空烘箱
面议在集成电路制造的光刻工艺中,为了保证光刻胶在晶圆处理过程中更好的完成图形转移,需要在晶圆上行喷涂hmds预处理的工艺,将晶圆表面亲水性的置换为疏水性的,使晶圆表面接触角达到65或更高。
HMDS 可以通过旋转稀释溶液直接涂在晶片上,并允许 HMDS 旋转干燥(HMDS 在室温下非常易挥发)。如果 HMDS 不适当干燥,则会导致显着的附着力损失。虽然直接旋涂很容易,它仅在置换一小部分硅烷醇基团时有效。迄今为止,施加增粘剂的优选方法是将基材置于 HMDS 蒸汽中,通常是在升高温度和降低压力下。这样在没有过多 HMDS 沉积的情况下对基材进行良好的涂覆,并且更高的温度会导致与硅烷的反应更好。用 HMDS 正确处理后,基材可以放置数天而不会明显重新吸附水。在同一HMDS气相成底膜烘箱中进行脱水烘烤和蒸汽灌注可提供性能。
HMDS气相成底膜烘箱 真空HMDS气相烘箱适用产品
硅片、磷化铟lnP、砷化镓GaAs、铌酸锂LiNbO₃、硫化锌ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、蓝宝石、晶圆、碳化硅等第三代、第四代半导体材料等。
HMDS气相成底膜烘箱 真空HMDS气相烘箱性能
HMDS药液泄漏报警提示
HMDS低液位报警提示
工艺数据记录功能
药液管道预热功能
程序锁定保护等功能
产品兼容性:1-12寸产品、方片、碎片及大型面板(可定制)
温度范围:RT-200℃
真空度:1torr
操作方式:人机界面,一键运行
HMDS控制:可控制HMDS 药液添加量
真空泵:无油涡旋真空泵
附件功能:图像反转功能