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HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱
¥98989掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱
¥98690HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS预处理烘箱
¥188950光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱
¥112690HMDS烘箱专用真空泵,HMDS系统无油泵
¥35860光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱
¥158709HMDS烘箱真空泵,HMDS烘箱无油泵 工业烘箱
¥28900HMDS专用烘箱,HMDS真空涂胶系统 工业烘箱
¥88900桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱 工业烘箱
¥1500HMDS增粘剂烘箱,HMDS涂胶机 工业烘箱
¥560碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱
¥98900HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵
¥35800HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )用途:
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )技术性能: