可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱用途

用于光刻胶粘合的 HMDS 气相沉积

晶圆基底脱水烘烤

用于半导体激光器芯片金属剥离处理的光刻胶图像反转

HMDS真空烘箱特点

我们的控制系统支持用户根据需要选择温度、处理时长及腔室尺寸。具有卓&越的 HMDS 键合和均匀性性能可实现高产量。

此外，我们的技术还能降低化学物品的使用量和成本，大批量产能和接近零的化学废物排放，实现经济效益。

通过工艺处理，达到图像反转效果，解决了图像反转光刻胶的复杂性。>99% 的正常运行时间和可靠性，具有经过客户验证的卓&越一致性和可重复性

可程式HMDS真空 烘箱  HMDS真 空烘箱性能

设备型号：JS-HMDS90AI                           

工作室尺寸（mm）： 300*300*300，450×450×450，650*650*650,1000*1000*1000可定制
材质：内箱采用316L医用级不锈钢
温度范围：RT+10-200℃ 
温度波动度：≤±0.5
真空度：1torr
操作界面：人机对话，一键式作业
分层数量：1-8层
HMDS控制:可控制HMDS药夜添加
真空泵：无油涡旋干泵
保护系统:HMDS药液泄漏报警提示，超温保护，漏电保护，过热保护

可程式HMDS真空烘箱  HMDS真空烘箱  高温HMDS真空烘箱应用于半导体工艺生产、科研机构、研发平台、高校实验室等，及新材料、新技术行业。

   上海隽思仪器专注于半导体设备， 硅烷气相沉积设备、精密热板、HMDS预处理系统、HMDS真空烘箱、无尘烘箱、洁净烘箱，氮气烘箱、无氧烘箱、无尘无氧烘箱、真空烘箱、真空无氧烘箱、干燥烘箱、真空储存柜、环境可靠性设备、超低温试验箱、高精度烤胶机等设备，同时可根据客户要求设计非标类 适用的产品。