-
JS精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台
精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台光刻胶在曝光完成后，光刻胶需要经过再一次烘烤，因为这次烘烤在曝光后，所以称为“曝光后烘烤”，简称后烘或坚膜，英文为Post Exposure Bake（PEB）。 参考价￥7980 -
90可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱
可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱 用于光刻胶粘合的 HMDS 气相沉积
晶圆基底脱水烘烤 参考价￥897850 -
真空保存箱 真空储存柜 真空防潮柜
真空保存箱 真空储存柜 真空防潮柜适用于工厂、高等院校、科研等场所，适用于各类化工原料、贵重金属、金属粉末等各种固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高级金属制品、厌氧产品、易氧化产品等） 参考价￥128900 -
真空防潮存储箱 真空储存柜 真空干燥柜
真空防潮存储箱 真空储存柜 真空干燥柜彩色触摸屏界面，集成式控制，位于箱体上方，可自动/手动控制，，也可用于材料器件、部件、元件的脱湿处理。 参考价￥123850 -
HMDS气相成底膜烘箱 真空HMDS气相烘箱
HMDS气相成底膜烘箱 真空HMDS气相烘箱在晶圆上行喷涂hmds预处理的工艺，将晶圆表面亲水性的置换为疏水性的，使晶圆表面接触角达到65或更高。 参考价￥98980 -
H-2真空存储柜 真空干燥柜 真空氮气柜
真空存储柜 真空干燥柜 真空氮气柜适用于各类化工原料、贵重金属、金属粉末等各种固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高级金属制品、厌氧产品、易氧化产品等）及机金属加工件与各类不便于冷藏的食品，还有书籍、衣物等厌氧物品的真空存贮，以防潮、防氧化变色。适用于工厂、高等院校、科研等场所。 参考价￥58900 -
HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱
HMDS预处理机H-2 智能HMDS真空烘箱为半导体应用的光刻胶粘合促进剂工艺设备， 参考价￥98989 -
JS-NH090反转真空烘箱 图像反转氨气炉
反转真空烘箱 图像反转氨气炉用于钣金加热、淬火、退火、焊接等工艺；在电子制造业中，可以用于半导体器件制造中的退火和腐蚀等工艺；在航空航天制造业中，可以用于航空发动机和航天器材料的热处理等。 参考价￥58989 -
图像翻转烘箱，光刻图形反转设备
图像翻转烘箱，光刻图形反转设备主要用于剥离过程，特别是在柔性电极、电极的制作以及其他一些MEMS器件工艺中。通过底切侧壁形态，可以防止沉积的材料在光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜，有助于获得干净的剥离光刻胶结构。 参考价￥89680 -
掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱
掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱使基底表面由亲水性变为疏水性，增强表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。 参考价￥98690 -
防凝露高低温湿热箱 除湿恒温恒湿试验箱
防凝露高低温湿热箱 除湿恒温恒湿试验箱温度试验箱在高温段持续输入箱内进行空气置换，可将箱内空气露点降至露点。其次在降温段保持干空气的输入，维持箱内对外界空气形成微正压，避免箱内降温过程中空气体积收缩产生的负压状态，隔绝大气中的水汽入侵。 参考价￥56890 -
超低湿恒温恒湿箱 低温低湿实验箱
超低湿恒温恒湿箱 低温低湿实验箱是模拟GB/T10586-2006湿热试验箱技术条件、GB/T10589-2008低温试验箱等技术条件；GB/T11158-2008高温试验箱技术条件制造，主要为航天、航空、石油、化工、军事、汽车（摩托车）、船舶、电子、通讯等科研及生产单位提供温湿度变化环境，模拟试品在温湿度变化环境条件下加载模拟振动的适应性试验及对电子元器件的安全性测试提供可靠性试验、产 参考价￥38950