光刻工艺HMDS镀膜机，MOS器件HMDS镀膜机-上海隽思实验仪器有限公司手机版

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光刻工艺HMDS镀膜机，MOS器件HMDS镀膜机用途：
光刻胶倒胶缺陷对于最终的产品良率有着极大的影响。光刻胶倒胶缺陷的产生,很大一部分原因是由于晶圆表面接触角不佳。光刻的六甲基二硅胺烷(HMDS)涂布工艺正是改善晶圆表面接触角的关键步骤。
光刻工艺HMDS镀膜机，功率MOS器件HMDS镀膜机特点：

1.HMDS是以气态形式气相涂布在器件（硅片、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃、陶瓷等材料）表面；

2.在显影过程中无需去除硅片表面的HMDS层；

3.在HMDS上面滴光刻胶甩涂时，光刻胶内的溶剂不会破坏HMDS层；

4.多余的HMDS蒸汽将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道，不会造成环境污染；

5.所有制程都在密闭的腔体内完成，操做是不会接触到HMDS蒸汽，该设备具有HMDS药液泄漏检测报警装置；

6.可保存多个产品制程，制程工艺一键完成，无需值守人员。

光刻工艺HMDS镀膜机，MOS器件HMDS镀膜机技术性能：

1.设备品牌：隽思

2.工作室尺寸（mm）： 450*450*450，500*500*600 可定制

3 外形尺寸：以实物为准

4. 材质：设备内腔采用优质耐腐蚀、耐高温316L医用级不锈钢，外箱采用优质冷轧板静电喷塑或优质不锈钢，

5. 温度使用范围：80-200℃

6. 温度分辨率：0.1℃

7. 温度波动度： ≤±0.5

8. 真空压力： ≤100pa

9.数据记录：可记录温度、压力等工艺数据

10.工艺安全：具有温度锁定功能

11.管路加热：药液输送管道可预热

12. 控制模式：人机界面+PLC

13.药液瓶：优质耐压防爆型

14. 药液控制：可控制HMDS药夜添加量

15.真空泵：旋片式油泵或涡旋干泵

16. 保护装置：HMDS药液泄漏检测装置，HMDS自动添加，超温保护，漏电保护，过热保护等

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