大型HMDS真空烘箱，4门HMDS真空烤箱 是半导体光刻工艺中的关键设备，主要用于基片表面预处理，通过六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增强光刻胶与基片的黏附性。

硅烷沉积设备 抗粘剂蒸镀系统 纳米抗粘设备通过表面修饰的模板,可以大大降低模板与压印聚合物层之间的相互作用力,在纳米压印过程中实现结构较好的转移,复制.

抗黏剂蒸镀机 抗粘剂涂胶机 硅烷气相镀膜机通过精确控制烘箱温度（100-200℃）、处理时长及保持时间等参数，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘剂蒸镀机 硅烷镀膜机气相沉积系统硅烷偶联剂（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三滤硅烷等）作为一类重要的有机硅化合物，在材料表面改性、复合...

疏水处理设备疏水性处理系统 HMDS预处理是一种改善物体表面性质的技术，使其具有疏水性，即不易被液体湿润。

表面疏水性处理设备陶瓷玻璃疏水处理机通过气相涂布硅烷偶联剂HMDS实现陶瓷表面疏水性能的提高，陶瓷表面接触角为118‑135度，且疏水材料与陶瓷基体的的附着性能...

纳米陶瓷材料表面疏水HMDS处理系统生产工艺周期短，提高生产效率；修饰液用量极少，节约成本90%；闭环的工艺过程，安全系数高。

可程式HMDS真空 烘箱HMDS真 空烘箱用于光刻胶粘合的 HMDS 气相沉积晶圆基底脱水烘烤

HMDS气相成底膜烘箱真空HMDS气相烘箱在晶圆上行喷涂hmds预处理的工艺，将晶圆表面亲水性的置换为疏水性的，使晶圆表面接触角达到65或更高。

HMDS预处理机H-2智能HMDS真空烘箱为半导体应用的光刻胶粘合促进剂工艺设备，

掩膜版HMDS真空烘箱hmds烤箱使基底表面由亲水性变为疏水性，增强表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、...

HDMS烘箱HDMS真空烘箱HDMS预处理烘箱保护装置：紧急停止，HMDS药液泄漏报&警提示，HMDS低液位报&警，超温保护，漏电保护，过热保护等

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理，从而改善光刻胶的附着力。

HMDS烘箱图像反转系统 HMDS涂胶机使用HMDS（六甲基二硅氮烷）对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布，以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反...

光刻胶HMDS烘箱HMDS疏水处理烘箱应用多晶硅，石英，太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO...

HMDS烘箱专用真空泵，HMDS系统无油泵较小的噪音-一台干泵却拥有较好的真空度，较大的抽速-停机时间短，维护成本更低

HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱是涂胶前对硅片表面进行处理，可以增加硅片表面水分子的接触角，使衬底表面从亲水性转化为疏水性

光伏电池片HMDS处理系统，HMDS预处理烘箱就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性，使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理...

HMDS烘箱，太阳能电池片HMDS烘箱适用行业：MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO...

HMDS烘箱真空泵，HMDS烘箱无油泵真空干泵具有(50dBA)和低振动运行的，密封设计(真空区与电机和轴承全隔开) 可提供洁净的泵内气体环路;从而消除了油或油...